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半导体有机台

1.设备概述:Ø设备用途:用于清洗零件Ø操作方式:将零件置于烧杯内清洗,清洗后化学液倒入有机槽排放,有机槽内冲洗烧杯及零件,有机槽具备短时间有机泡洗工件功能Ø设备外形尺寸: 宽×深×高(W×D×H单位 mm)= 18···

产品描述

1. 设备概述:

Ø 设备用途:用于清洗零件

 

Ø 操作方式:将零件置于烧杯内清洗,清洗后化学液倒入有机槽排放,有机槽内 冲洗烧杯及零件,有机槽具备短时间有机泡洗工件功能

Ø 设备外形尺寸: 宽×深×高(W×D×H 单位 mm)= 1800×800×1800(推拉门到顶高度2700mm)

Ø 设备重量:总重量=300Kg

Ø 设备布局:

图片5.png 

2. 设备构成及详细技术说明:

2.1. 设备组成:

Ø 由以下部分组成,本体、水槽、DI 纯水管路、排风系统及电气系统等部分组成。

Ø 以下对每部分详细说明:

2.2. 本体

Ø 本体由耐腐蚀 PP 材料焊接而成,耐强酸碱

Ø 底托由碳钢外包PP 板焊接而成

安全门:本体的操作侧配有透明 PVC 外包 PP 材质上下推拉门,推拉门推


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